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钛靶用途
真空镀膜等行业专用的钛靶，用于镀钛金，锆金，钻头工具等行业
钛管靶规格 直径 70*7 70*9 76*10 等
钛靶直径 100*45 100*40 80*40 72*20 MM 等等
钛靶材质
TA0 、TA1 、TA2 、TA9、TA10、ZR2 、ZR0 、GR5、GR2、GR1、TC11、TC6、TC4、TC3、TC2、TC1
钛靶执行标准
国标（GB/T）TA1.TA2.TA3.TA4.TA7.TA9.TC4c以及美标（ASTM /AMS）
牌号:GR1.GR2.GR5.GR7等牌号
钛靶的杂质含量
靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含
量的要求也不同。例如，半导体工业用的纯铝及铝合金靶材，对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊
要求。
钛靶的纯度
纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中，对
靶材的纯度要求也不尽相同。例如，随着微电子行业的迅速发展，硅片尺寸由6”, 8“发展到12”, 而
布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺
要求，而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。
